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10級：主要用于帶寬小于2微米的半導體工業(yè)。其空氣凈化要求僅次于1級，并且我國半導體技術(shù)也在發(fā)展之中，在未來對潔凈度的要求更加高。設(shè)計合理的空間面積應考慮到設(shè)備操作、維修的需要。生產(chǎn)區(qū)和儲存區(qū)應有與生產(chǎn)規(guī)模相適應的空間面積，用以安置設(shè)備、物料，便于操作和維修?，F(xiàn)在我們國家的經(jīng)濟科技在發(fā)展，同時帶動了社會各行各業(yè)在告訴發(fā)展中。以凈化工程這個行業(yè)為例，在目前呈現(xiàn)一片喜人的發(fā)展態(tài)勢。

要說凈化工程在發(fā)展的前景方面，形勢還是非常好的，市場需求更是一片大好。因為我們國家的制藥、電子信息等行業(yè)都在迅速發(fā)展，所以對凈化工程行業(yè)的發(fā)展起到了帶動的作用。在這里需要提醒大家的是自從我們國家的醫(yī)方面的改條文GMP-2010發(fā)布之后，既推動了生物醫(yī)和食品化工行業(yè)的發(fā)展，也間接的推動了凈化工程行業(yè)的發(fā)展。而且相關(guān)方面支持也讓凈化工程行業(yè)的發(fā)展機遇推到了非常好。10級：主要用于帶寬小于2微米的半導體工業(yè)。其空氣凈化要求僅次于1級，并且我國半導體技術(shù)也在發(fā)展之中，在未來對潔凈度的要求更加高。相對濕度越高,粘附的難去掉，但當相對濕度低于30%時，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時大量半導體器件容易發(fā)生擊穿。對于硅片生產(chǎn)溫度范圍為35—45%。

直徑100 um的硅片，溫度上升1度，就引起了0.24um線性膨脹，所以必須有±0.1度的恒溫，同時要求濕度值一般較低，因為人出汗以后，對產(chǎn)品將有污染，特別是怕鈉的半導體車間，這種車間不宜超過25度。我們國家的空氣分子控制等的技術(shù)正在朝有利的方向發(fā)展，這項技術(shù)原先是由日本發(fā)展起來的，現(xiàn)在已經(jīng)受到了全世界的關(guān)注和認可，在我們國家，這項技術(shù)已經(jīng)受到了相關(guān)行業(yè)的重視并且投入研發(fā)，相信在不久的未來，我們國家的相關(guān)科研人員一定會在這個領(lǐng)域取得讓人滿意的成績，為我們國家的凈化工程行業(yè)做出貢獻。潔凈空間的壓力要高于非潔凈空間的壓力。潔凈度級別高的空間的壓力要高于相鄰的潔凈度級別低的空間的壓力。相通潔凈室之間的門要開向潔凈度級別高的房間"